AFS 先进磁控溅射系统

AFS系列磁控溅射系统是倍思科公司的旗舰产品，最多安装6支磁控溅射靶枪。

该系统是一种主要为尖端科学研究应用而开发的多功能磁控溅射装置，可以进行平衡态溅射、非平衡态溅射、偏压溅射等。适用于在基材上镀制各种金属、非金属、磁性材料 、化合物、半导体、陶瓷、有机或无机材料等。

Ø  磁场采用模块化设计，可以在磁性/非铁磁溅射，平衡/非平衡态溅射中转换。

     这样独特的设计，可以使用户根据不同的溅射材料来优化磁场，从而达到最理想的沉积效果。

Ø  可以有效的防止不同材料间的交叉污染， 能有效控制靶源的工作状态，从而获得最佳质量的薄膜。

     尤其在使用多材料共溅射时，优势明显。

Ø  有效的利用工艺气体，溅射时的工作压力可以最低（如低于0.05Pa），从而极大的提高了真空室内的洁净度，

     有利于提高沉积时靶材原子的扩散能力获得高质量的薄膜。

Ø  高品质的磁组及优化的结构设计，保证磁组的使用寿命最长。

Ø  可以搭载最新的多功能样品台，实现样品加热、自转、公转、倾斜、升降、偏压等功能。

Ø  沉积均匀性:+/-2.5% （光学方法测量）